GB/T 30656-2014
Polierte monokristalline Siliziumkarbid-Wafer (Englische Version)
- Standard-Nr.
- GB/T 30656-2014
- Sprachen
- Chinesisch, Verfügbar auf Englisch
- Erscheinungsdatum
- 2014
- Organisation
- General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China
- Zustand
- 2023-10
- ersetzt durch
- GB/T 30656-2023
- Letzte Version
- GB/T 30656-2023
GB/T 30656-2014 Normative Verweisungen
- DIN 50448 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Berührungslose Bestimmung des elektrischen Widerstands von halbisolierenden Halbleiterscheiben mittels einer kapazitiven Sonde
- GB/T 13387 Testverfahren zur Messung flacher Wafer aus Silizium und anderen elektronischen Materialien
- GB/T 13388 Verfahren zur Messung der kristallographischen Orientierung von Flächen auf einkristallinen Siliziumscheiben und Wafern mittels Röntgentechnik
- GB/T 14140 Testverfahren zur Messung des Durchmessers von Halbleiterwafern
- GB/T 14264 Halbleitermaterialien – Begriffe und Definitionen
- GB/T 1555 Methode zur Bestimmung der Kristallorientierung eines Halbleiter-Einkristalls*， 2023-08-06 Aktualisieren
- GB/T 29505 Prüfverfahren zur Messung der Oberflächenrauheit auf planaren Oberflächen von Siliziumwafern
- GB/T 29507 Testmethode zur Messung der Ebenheit, Dicke und Gesamtdickenschwankung von Siliziumwafern. Automatisiertes berührungsloses Scannen
- GB/T 31351 Zerstörungsfreie Prüfmethode für die Mikroröhrendichte von polierten monokristallinen Siliziumkarbid-Wafern
- GB/T 6616 Berührungsloses Wirbelstromverfahren zum Testen des spezifischen Widerstands von Halbleiterwafern und des Schichtwiderstands von Halbleiterfilmen*， 2023-08-06 Aktualisieren
- GB/T 6619 Prüfverfahren für die Biegung von Siliziumwafern
- GB/T 6620 Testverfahren zur Messung der Verformung von Siliziumscheiben durch berührungsloses Scannen
- GB/T 6624 Standardmethode zur Messung der Oberflächenqualität polierter Siliziumscheiben durch visuelle Inspektion
GB/T 30656-2014 Veröffentlichungsverlauf
- 2023 GB/T 30656-2023 Einkristall-polierter Siliziumkarbid-Wafer
- 2014 GB/T 30656-2014 Polierte monokristalline Siliziumkarbid-Wafer
