GB/T 13388-2009
Verfahren zur Messung der kristallographischen Orientierung von Flächen auf einkristallinen Siliziumscheiben und Wafern mittels Röntgentechnik (Englische Version)
- Standard-Nr.
- GB/T 13388-2009
- Sprachen
- Chinesisch, Verfügbar auf Englisch
- Erscheinungsdatum
- 2009
- Organisation
- General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China
- Letzte Version
- GB/T 13388-2009
- Ersetzen
- GB/T 13388-1992
GB/T 13388-2009 Normative Verweisungen
- ASTM E82 Standardtestmethode zur Bestimmung der Orientierung eines Metallkristalls
- GB/T 12964 Polierte Wafer aus monokristallinem Silizium*， 2018-09-17 Aktualisieren
- GB/T 12965 Monokristallines Silizium als geschnittene Wafer und geläppte Wafer*， 2018-09-17 Aktualisieren
- GB/T 14264 Halbleitermaterialien – Begriffe und Definitionen
- GB/T 1555 Methode zur Bestimmung der Kristallorientierung eines Halbleiter-Einkristalls*， 2023-08-06 Aktualisieren
- GB/T 2828.1 Prüfverfahren nach Zählprobenahme Teil 1: Stichprobenplan für die Chargenprüfung, abgerufen durch die Akzeptanzqualitätsgrenze (AQL)*， 2013-02-15 Aktualisieren
GB/T 13388-2009 Veröffentlichungsverlauf
- 2009 GB/T 13388-2009 Verfahren zur Messung der kristallographischen Orientierung von Flächen auf einkristallinen Siliziumscheiben und Wafern mittels Röntgentechnik
- 1992 GB/T 13388-1992 Verfahren zur Messung der kristallographischen Orientierung von Flächen auf Einkristall-Silikonscheiben und -Wafern durch Röntgentechniken
