GB/T 14140-2009
Testverfahren zur Messung des Durchmessers von Halbleiterwafern (Englische Version)

Standard-Nr.
GB/T 14140-2009
Sprachen
Chinesisch, Verfügbar auf Englisch
Erscheinungsdatum
2009
Organisation
General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China
Letzte Version
GB/T 14140-2009
Ersetzen
GB/T 14140.1-1993 GB/T 14140.2-1993

GB/T 14140-2009 Normative Verweisungen

  • GB/T 12964-2003 Polierte Wafer aus monokristallinem Silizium
  • GB/T 2828.1-2003 Probenahmeverfahren für die Prüfung nach Merkmalen – Teil 1: Stichprobenpläne, indexiert nach der Akzeptanzqualitätsgrenze (AQL) für die Prüfung von Los zu Los
  • GB/T 6093-2001 Geometrische Produktspezifikationen (GPS) – Längenstandards – Endmaße

GB/T 14140-2009 Veröffentlichungsverlauf

  • 2009 GB/T 14140-2009 Testverfahren zur Messung des Durchmessers von Halbleiterwafern
  • 1993 GB/T 14140.2-1993 Siliziumscheiben und -wafer – Messung des Durchmessers – Mikrometermethode
Testverfahren zur Messung des Durchmessers von Halbleiterwafern



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