GB/T 26069-2022
Geglühte monokristalline Siliziumwafer (Englische Version)

Standard-Nr.
GB/T 26069-2022
Sprachen
Chinesisch, Verfügbar auf Englisch
Erscheinungsdatum
2022
Organisation
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会
Letzte Version
GB/T 26069-2022
Ersetzen
GB/T 26069-2010

GB/T 26069-2022 Normative Verweisungen

  • GB/T 12962 Silizium-Einkristall
  • GB/T 12965 Monokristallines Silizium als geschnittene Wafer und geläppte Wafer
  • GB/T 14264 Halbleitermaterialien – Begriffe und Definitionen
  • GB/T 1550 Prüfverfahren für den Leitfähigkeitstyp von extrinsischen Halbleitermaterialien
  • GB/T 19921 Prüfmethode für Partikel auf polierten Siliziumwaferoberflächen
  • GB/T 2828.1-2012 Prüfverfahren nach Zählprobenahme Teil 1: Stichprobenplan für die Chargenprüfung, abgerufen durch die Akzeptanzqualitätsgrenze (AQL)
  • GB/T 29507 Testmethode zur Messung der Ebenheit, Dicke und Gesamtdickenschwankung von Siliziumwafern. Automatisiertes berührungsloses Scannen
  • GB/T 32280 Testverfahren für Verformung und Biegung von Siliziumwafern – Automatisiertes berührungsloses Scanverfahren
  • GB/T 39145 Testmethode für den Gehalt an Oberflächenmetallelementen auf Siliziumwafern – Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • GB/T 4058 Testverfahren zur Erkennung von durch Oxidation verursachten Defekten in polierten Siliziumwafern
  • GB/T 6616 Berührungsloses Wirbelstromverfahren zum Testen des spezifischen Widerstands von Halbleiterwafern und des Schichtwiderstands von Halbleiterfilmen*2023-08-06 Aktualisieren
  • GB/T 6624 Standardmethode zur Messung der Oberflächenqualität polierter Siliziumscheiben durch visuelle Inspektion
  • YS/T 28 Waffelverpackung
  • YS/T 679 Oberflächenphotospannungsmethode zur Messung der Diffusionslänge von Minoritätsträgern in extrinsischen Halbleitern

GB/T 26069-2022 Veröffentlichungsverlauf

Geglühte monokristalline Siliziumwafer



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