DIN 50455-1:2009
Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Methoden zur Charakterisierung von Fotolacken – Teil 1: Bestimmung der Schichtdicke mit optischen Methoden
- Standard-Nr.
- DIN 50455-1:2009
- Erscheinungsdatum
- 2009
- Organisation
- German Institute for Standardization
- Zustand
- ersetzt durch
- DIN 50455-1:2009-10
- Letzte Version
- DIN 50455-1:2009-10
- Ersetzen
- DIN 50455-1:2008 DIN 50455-1:1991
DIN 50455-1:2009 Normative Verweisungen
- EN ISO 14644-1 Reinräume und zugehörige kontrollierte Umgebungen – Teil 1: Klassifizierung der Luftreinheit nach Partikelkonzentration (ISO 14644-1:2015)*， 2015-12-01 Aktualisieren
DIN 50455-1:2009 Veröffentlichungsverlauf
- 2009 DIN 50455-1:2009-10 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Methoden zur Charakterisierung von Fotolacken – Teil 1: Bestimmung der Schichtdicke mit optischen Methoden
- 2009 DIN 50455-1:2009 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Methoden zur Charakterisierung von Fotolacken – Teil 1: Bestimmung der Schichtdicke mit optischen Methoden
- 1991 DIN 50455-1:1991 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik; Methoden zur Charakterisierung von Fotolacken; Bestimmung der Schichtdicke mit optischen Methoden
