DIN 50455-1:2009-10
Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Methoden zur Charakterisierung von Fotolacken – Teil 1: Bestimmung der Schichtdicke mit optischen Methoden
- Standard-Nr.
- DIN 50455-1:2009-10
- Erscheinungsdatum
- 2009
- Organisation
- German Institute for Standardization
- Letzte Version
- DIN 50455-1:2009-10
DIN 50455-1:2009-10 Veröffentlichungsverlauf
- 2009 DIN 50455-1:2009-10 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Methoden zur Charakterisierung von Fotolacken – Teil 1: Bestimmung der Schichtdicke mit optischen Methoden
- 2009 DIN 50455-1:2009 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Methoden zur Charakterisierung von Fotolacken – Teil 1: Bestimmung der Schichtdicke mit optischen Methoden
- 1991 DIN 50455-1:1991 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik; Methoden zur Charakterisierung von Fotolacken; Bestimmung der Schichtdicke mit optischen Methoden
