DIN 50455-1:1991
Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik; Methoden zur Charakterisierung von Fotolacken; Bestimmung der Schichtdicke mit optischen Methoden

Standard-Nr.
DIN 50455-1:1991
Erscheinungsdatum
1991
Organisation
German Institute for Standardization
Zustand
 2009-10
ersetzt durch
DIN 50455-1:2009
Letzte Version
DIN 50455-1:2009-10

DIN 50455-1:1991 Veröffentlichungsverlauf

  • 2009 DIN 50455-1:2009-10 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Methoden zur Charakterisierung von Fotolacken – Teil 1: Bestimmung der Schichtdicke mit optischen Methoden
  • 2009 DIN 50455-1:2009 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Methoden zur Charakterisierung von Fotolacken – Teil 1: Bestimmung der Schichtdicke mit optischen Methoden
  • 1991 DIN 50455-1:1991 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik; Methoden zur Charakterisierung von Fotolacken; Bestimmung der Schichtdicke mit optischen Methoden



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