ASTM F996-98(2003)
Standardtestverfahren zur Trennung einer durch ionisierende Strahlung induzierten MOSFET-Schwellenspannungsverschiebung in Komponenten aufgrund von Oxid-eingeschlossenen Löchern und Schnittstellenzuständen unter Verwendung der Strom-Spannungs-Eigenschaften unterhalb der Schwelle