GOST R 8.700-2010
Staatliches System zur Gewährleistung der Einheitlichkeit der Messungen. Methode zur Messung der effektiven Höhe der Oberflächenrauheit mittels Rasterkraftmikroskop

Standard-Nr.
GOST R 8.700-2010
Erscheinungsdatum
2010
Organisation
RU-GOST R
Letzte Version
GOST R 8.700-2010

GOST R 8.700-2010 Normative Verweisungen

  • GOST 12.1.005-1988 Arbeitssicherheitsnormensystem. Allgemeine Hygieneanforderungen für die Luft im Arbeitsbereich
  • GOST 12.1.045-1984 Arbeitssicherheitsnormensystem. Elektrostatische Felder. Toleranzgrenzen und Kontrollmethoden am Arbeitsplatz
  • GOST 25142-1982 Oberflächenrauheit. Begriffe und Definitionen
  • GOST R 8.628-2007 Staatliches System zur Gewährleistung der Einheitlichkeit der Messungen. Reliefmaße im Nanometerbereich von einkristallinem Silizium. Anforderungen an geometrische Formen, lineare Größen und Auswahl des Fertigungsmaterials
  • GOST R 8.629-2007 Staatliches System zur Gewährleistung der Einheitlichkeit der Messungen. Reliefmaße im Nanometerbereich mit trapezförmigem Profil der Elemente. Methoden zur Überprüfung
  • GOST R 8.630-2007 Staatliches System zur Gewährleistung der Einheitlichkeit der Messungen. Rasterkraft-Rastersondenmikroskope. Methoden zur Überprüfung
  • GOST R 8.635-2007 Staatliches System zur Gewährleistung der Einheitlichkeit der Messungen. Rasterkraft-Rastersondenmikroskope. Methode zur Kalibrierung
  • GOST R 8.644-2008 Staatliches System zur Gewährleistung der Einheitlichkeit der Messungen. Reliefmaße im Nanometerbereich mit trapezförmigem Profil der Elemente. Methoden zur Kalibrierung
  • GOST R ISO 14644-2-2001 Reinräume und zugehörige kontrollierte Umgebungen. Teil 2. Spezifikationen für Tests und Überwachung zum Nachweis der kontinuierlichen Einhaltung von ISO 14644-1
  • GOST R ISO 14644-5-2005 Reinräume und zugehörige kontrollierte Umgebungen. Teil 5. Operationen

GOST R 8.700-2010 Veröffentlichungsverlauf

  • 2010 GOST R 8.700-2010 Staatliches System zur Gewährleistung der Einheitlichkeit der Messungen. Methode zur Messung der effektiven Höhe der Oberflächenrauheit mittels Rasterkraftmikroskop



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