JIS K 0164:2010
Chemische Oberflächenanalyse – Sekundärionen-Massenspektrometrie – Methode zur Tiefenprofilierung von Bor in Silizium

Standard-Nr.

JIS K 0164:2010

Erscheinungsdatum

2010

Organisation

Japanese Industrial Standards Committee (JISC)

Zustand

ersetzt werden 2023-02

ersetzt durch

JIS K 0164:2023

Letzte Version

JIS K 0164:2023

JIS K 0164:2010 Normative Verweisungen

• JIS K 0143:2000 Chemische Oberflächenanalyse – Sekundärionen-Massenspektrometrie – Bestimmung der Bor-Atomkonzentration in Silizium unter Verwendung gleichmäßig dotierter Materialien

JIS K 0164:2010 Veröffentlichungsverlauf

• 2023 JIS K 0164:2023 Chemische Oberflächenanalyse – Sekundärionen-Massenspektrometrie – Methode zur Tiefenprofilierung von Bor in Silizium
• 2010 JIS K 0164:2010 Chemische Oberflächenanalyse – Sekundärionen-Massenspektrometrie – Methode zur Tiefenprofilierung von Bor in Silizium