JIS K 0160:2009
Chemische Oberflächenanalyse – Chemische Methoden zur Sammlung von Elementen von der Oberfläche von Siliziumwafer-Arbeitsreferenzmaterialien und deren Bestimmung durch Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF).

Standard-Nr.

JIS K 0160:2009

Erscheinungsdatum

2009

Organisation

Japanese Industrial Standards Committee (JISC)

Letzte Version

JIS K 0160:2009

JIS K 0160:2009 Normative Verweisungen

• JIS B 9920 Klassifizierung der Luftreinheit für Reinräume
• JIS K 0148 Chemische Oberflächenanalyse – Bestimmung der Oberflächenelementkontamination auf Siliziumwafern durch Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF).
• JIS Z 8402-2 Genauigkeit (Richtigkeit und Präzision) von Messmethoden und -ergebnissen – Teil 2: Grundlegende Methode zur Bestimmung der Wiederholbarkeit und Reproduzierbarkeit einer Standardmessmethode

JIS K 0160:2009 Veröffentlichungsverlauf

• 2009 JIS K 0160:2009 Chemische Oberflächenanalyse – Chemische Methoden zur Sammlung von Elementen von der Oberfläche von Siliziumwafer-Arbeitsreferenzmaterialien und deren Bestimmung durch Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF).