JIS K 0148:2005 Chemische Oberflächenanalyse – Bestimmung der Oberflächenelementkontamination auf Siliziumwafern durch Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF).
2005JIS K 0148:2005 Chemische Oberflächenanalyse – Bestimmung der Oberflächenelementkontamination auf Siliziumwafern durch Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF).