YS/T 893-2013
Hochreines Sputter-Titan-Target für den Einsatz in elektronischen Filmen (Englische Version)
- Standard-Nr.
- YS/T 893-2013
- Sprachen
- Chinesisch, Verfügbar auf Englisch
- Erscheinungsdatum
- 2013
- Organisation
- Professional Standard - Non-ferrous Metal
- Letzte Version
- YS/T 893-2013
YS/T 893-2013 Normative Verweisungen
- GB/T 1031 Geometrische Produktspezifikationen (GPS).Oberflächentextur:Profilmethode.Oberflächenrauheitsparameter und ihre Werte
- GB/T 4698.14 Methoden zur chemischen Analyse von Titanschwamm, Titan und Titanlegierungen. Bestimmung des Kohlenstoffgehalts
- GB/T 4698.15 Methoden zur chemischen Analyse von Titanschwamm, Titan und Titanlegierungen.Bestimmung des Wasserstoffgehalts
- GB/T 4698.7 Methoden zur chemischen Analyse von Titanschwamm, Titan und Titanlegierungen. Bestimmung des Sauerstoff- und Stickstoffgehalts
- GB/T 6394 Bestimmung zur Schätzung der durchschnittlichen Korngröße von Metall*， 2017-02-28 Aktualisieren
- GJB 1580A Ultraschallprüfung von verformtem Metall*， 2019-12-08 Aktualisieren
- YS/T 837 Standardpraxis für die Ultraschall-C-Scan-Verbindungsbewertung von Sputtertarget-Trägerplattenbaugruppen
- YS/T 891 Methoden zur chemischen Analyse von hochreinem Titan. Bestimmung des Gehalts an Spurenverunreinigungselementen. Glimmentladungs-Massenspektrometrie
- YS/T 892 Methoden zur chemischen Analyse von hochreinem Titan. Bestimmung des Gehalts an Spurenverunreinigungselementen. Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
YS/T 893-2013 Veröffentlichungsverlauf
- 2013 YS/T 893-2013 Hochreines Sputter-Titan-Target für den Einsatz in elektronischen Filmen
