ISO 16531:2013
Chemische Oberflächenanalyse – Tiefenprofilierung – Methoden zur Ionenstrahlausrichtung und die damit verbundene Messung von Strom oder Stromdichte für die Tiefenprofilierung in AES und XPS

Standard-Nr.
ISO 16531:2013
Erscheinungsdatum
2013
Organisation
International Organization for Standardization (ISO)
Zustand
ersetzt durch
ISO 16531:2020
Letzte Version
ISO 16531:2020

ISO 16531:2013 Normative Verweisungen

  • ISO 18115-1 Chemische Oberflächenanalyse – Vokabular – Teil 1: Allgemeine Begriffe und Begriffe, die in der Spektroskopie verwendet werden*2023-06-01 Aktualisieren

ISO 16531:2013 Veröffentlichungsverlauf

  • 2020 ISO 16531:2020 Chemische Oberflächenanalyse – Tiefenprofilierung – Methoden zur Ionenstrahlausrichtung und die damit verbundene Messung von Strom oder Stromdichte für die Tiefenprofilierung in AES und XPS
  • 2013 ISO 16531:2013 Chemische Oberflächenanalyse – Tiefenprofilierung – Methoden zur Ionenstrahlausrichtung und die damit verbundene Messung von Strom oder Stromdichte für die Tiefenprofilierung in AES und XPS
Chemische Oberflächenanalyse – Tiefenprofilierung – Methoden zur Ionenstrahlausrichtung und die damit verbundene Messung von Strom oder Stromdichte für die Tiefenprofilierung in AES und XPS



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