NF EN 62047-25:2016 Halbleiterbauelemente – Mikroelektromechanische Bauelemente – Teil 25: Siliziumbasierte MEMS-Fertigungstechnologie – Verfahren zur Messung der Zug-Druck- und Scherfestigkeit einer Mikrolotzone
2016NF EN 62047-25:2016 Halbleiterbauelemente – Mikroelektromechanische Bauelemente – Teil 25: Siliziumbasierte MEMS-Fertigungstechnologie – Verfahren zur Messung der Zug-Druck- und Scherfestigkeit einer Mikrolotzone