GB/T 41751-2022
Prüfverfahren für den Krümmungsradius der Kristallebene in GaN-Einkristall-Substratwafern (Englische Version)

Standard-Nr.
GB/T 41751-2022
Sprachen
Chinesisch, Verfügbar auf Englisch
Erscheinungsdatum
2022
Organisation
General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China
Letzte Version
GB/T 41751-2022

GB/T 41751-2022 Normative Verweisungen

  • GB/T 14264 Halbleitermaterialien – Begriffe und Definitionen

GB/T 41751-2022 Veröffentlichungsverlauf

  • 2022 GB/T 41751-2022 Prüfverfahren für den Krümmungsradius der Kristallebene in GaN-Einkristall-Substratwafern
Prüfverfahren für den Krümmungsradius der Kristallebene in GaN-Einkristall-Substratwafern



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