GB/T 41064-2021
Chemische Oberflächenanalyse – Tiefenprofilierung – Methode zur Bestimmung der Sputterrate in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie, Auger-Elektronenspektroskopie und Sekundärionen-Massenspektrometrie zur Sputtertiefenprofilierung unter Verwendung von ein- und mehrschichtigen Dünnfilmen (Englische Version)

Standard-Nr.
GB/T 41064-2021
Sprachen
Chinesisch, Verfügbar auf Englisch
Erscheinungsdatum
2021
Organisation
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会
Letzte Version
GB/T 41064-2021

GB/T 41064-2021 Normative Verweisungen

  • ISO 14606 Chemische Oberflächenanalyse – Sputtertiefenprofilierung – Optimierung unter Verwendung von Schichtsystemen als Referenzmaterialien*2022-11-21 Aktualisieren

GB/T 41064-2021 Veröffentlichungsverlauf

  • 2021 GB/T 41064-2021 Chemische Oberflächenanalyse – Tiefenprofilierung – Methode zur Bestimmung der Sputterrate in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie, Auger-Elektronenspektroskopie und Sekundärionen-Massenspektrometrie zur Sputtertiefenprofilierung unter Verwendung von ein- und mehrschichtigen Dünnfilmen
Chemische Oberflächenanalyse – Tiefenprofilierung – Methode zur Bestimmung der Sputterrate in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie, Auger-Elektronenspektroskopie und Sekundärionen-Massenspektrometrie zur Sputtertiefenprofilierung unter Verwendung von ein- und mehrschichtigen Dünnfilmen



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