SJ 20636-1997
Testverfahren für den Sauerstoff- und Kohlenstoffgehalt von dünnen Siliziumwafern mit großem Durchmesser im Mikrobereich zur Verwendung in IC (Englische Version)

Standard-Nr.
SJ 20636-1997
Sprachen
Chinesisch, Verfügbar auf Englisch
Erscheinungsdatum
1997
Organisation
Professional Standard - Electron
Letzte Version
SJ 20636-1997

SJ 20636-1997 Veröffentlichungsverlauf

  • 1997 SJ 20636-1997 Testverfahren für den Sauerstoff- und Kohlenstoffgehalt von dünnen Siliziumwafern mit großem Durchmesser im Mikrobereich zur Verwendung in IC
Testverfahren für den Sauerstoff- und Kohlenstoffgehalt von dünnen Siliziumwafern mit großem Durchmesser im Mikrobereich zur Verwendung in IC



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