SJ 20636-1997 Testverfahren für den Sauerstoff- und Kohlenstoffgehalt von dünnen Siliziumwafern mit großem Durchmesser im Mikrobereich zur Verwendung in IC (Englische Version)
1997SJ 20636-1997 Testverfahren für den Sauerstoff- und Kohlenstoffgehalt von dünnen Siliziumwafern mit großem Durchmesser im Mikrobereich zur Verwendung in IC