YS/T 514.9-2009
Methoden zur chemischen Analyse von Schlacke und Rutil mit hohem Titangehalt. Teil 9: Bestimmung des Gehalts an Calciumoxid, Magnesiumoxid, Manganmonoxid, Phosphor, Chromoxid und Vanadiumpentoxid. Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (Englische Version)

Standard-Nr.
YS/T 514.9-2009
Sprachen
Chinesisch, Verfügbar auf Englisch
Erscheinungsdatum
2009
Organisation
Professional Standard - Non-ferrous Metal
Letzte Version
YS/T 514.9-2009
Ersetzen
YS/T 514.10-2006 YS/T 514.11-2006

YS/T 514.9-2009 Veröffentlichungsverlauf

  • 2009 YS/T 514.6-2009 Methoden zur chemischen Analyse von Schlacke und Rutil mit hohem Titangehalt. Teil 6: Bestimmung des Manganmonoxidgehalts. Flammen-Atomabsorptionsspektrometrie
  • 2006 YS/T 514.9-2006 Schlacke mit hohem Titangehalt, Rutil-chemische Analysemethode, Persulfat-Arsenit-Volumenmethode zur Bestimmung von Manganmonoxid

YS/T 514.9-2009 Methoden zur chemischen Analyse von Schlacke und Rutil mit hohem Titangehalt. Teil 9: Bestimmung des Gehalts an Calciumoxid, Magnesiumoxid, Manganmonoxid, Phosphor, Chromoxid und Vanadiumpentoxid. Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma ha sido cambiado a YS/T 514.10-2006 Schlacke mit hohem Titangehalt, chemische Rutil-Analysemethode, spektrophotometrische Diphenylcarbohydrazid-Bestimmung des Chromtrioxidgehalts.

YS/T 514.9-2009 Methoden zur chemischen Analyse von Schlacke und Rutil mit hohem Titangehalt. Teil 9: Bestimmung des Gehalts an Calciumoxid, Magnesiumoxid, Manganmonoxid, Phosphor, Chromoxid und Vanadiumpentoxid. Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma ha sido cambiado a YS/T 514.11-2006 Schlacke mit hohem Titangehalt, chemische Rutil-Analysemethode, photometrische Methode zur Extraktion von Benzoylbenzolketonen, Bestimmung des Vanadiumpentoxidgehalts.

Methoden zur chemischen Analyse von Schlacke und Rutil mit hohem Titangehalt. Teil 9: Bestimmung des Gehalts an Calciumoxid, Magnesiumoxid, Manganmonoxid, Phosphor, Chromoxid und Vanadiumpentoxid. Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma



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